|
|
 |
 |
 |
|
Н
О
В
О
С
Т
И
|
IBM предложила 29,9-нанометровую технологию производства чипов
| дата: 21.02.06 14:54 рубрика: железо | | Компания IBM предложила новую технологию, которая,
как утверждается, позволяет формировать на кремниевых пластинах линии с
шагом 30 нанометров и меньше. Разработанная технология основана на
применении усовершенствованной методики иммерсионной литографии. Суть
процесса иммерсионной литографии сводится к погружению кремниевых
пластин в дистиллированную воду и последующему нанесению на них рисунка
посредством лазерного луча. Полученный рисунок затем проявляется в ходе
химической реакции. В системе, предложенной IBM, применяется
специальное устройство под названием NEMO. Аппарат использует два
перекрещивающихся лазерных луча для создания интерференционной картины,
что позволяет добиться более высокой точности по сравнению с
традиционной технологией иммерсионной литографии. Кроме того, вместо
дистиллированной воды в системе IBM используется особая жидкость,
созданная фирмой JSR Micro. Предполагается, что применение NEMO
позволит производить процессоры по 29,9-нанометровой технологии. В
настоящее время большая часть чипов изготавливается по 90-нанометровой
и 65-нанометровой технологиям. А ведущие компании, в частности, Intel
только начинают освоение 45-нанометровой методики производства
микросхем. Ожидается, что массовое внедрение такого техпроцесса
начнется в следующем году. Что касается новой разработки IBM, то
компания пока не делает никаких конкретных прогнозов относительно
возможных сроков практического применения усовершенствованной методики
иммерсионной литографии. Хотя результаты исследований должны быть
представлены на этой неделе в рамках конференции Microlithography 2006,
которая пройдет в Сан-Хосе (штат Калифорния), сообщает CNET News.
| |
|
|
|
|
 |
 |
|
 |
|
